ज़िरकोनियम सिलिकेट पाउडर की उत्पादन विधियों में मुख्य रूप से ठोस चरण विधि, अवक्षेपण विधि, माइक्रोइमल्शन विधि, हाइड्रोथर्मल विधि, सोल-जेल विधि आदि शामिल हैं।
ठोस-चरण विधि सीधे कच्चे माल के रूप में ZrO2 और SiO2 का उपयोग करना है, उन्हें एक निश्चित अनुपात के अनुसार समान रूप से मिलाना है, और उच्च तापमान कैल्सीनेशन के बाद एक निश्चित कण आकार के साथ ज़िरकोनियम सिलिकेट पाउडर प्राप्त करना है। यद्यपि यह विधि कुशल, सरल है और बड़े पैमाने पर उत्पादित की जा सकती है, लेकिन विशिष्ट आवश्यक जिरकोनियम सिलिकेट पाउडर प्राप्त करना मुश्किल है, और इसके लिए उच्च संश्लेषण तापमान की आवश्यकता होती है।
अवक्षेपण विधि एक या अधिक आयनों वाले घुलनशील नमक के घोल में अवक्षेप को जोड़ना है, और रासायनिक प्रतिक्रियाओं की एक श्रृंखला के माध्यम से संबंधित सह-अवक्षेप प्राप्त करना है, और फिर जिरकोनियम सिलिकेट पाउडर प्राप्त करने के लिए अवक्षेप को और विघटित करना है। इस विधि में उच्च उपकरण और प्रौद्योगिकी की आवश्यकता नहीं होती है, इसमें कम लागत और उच्च उत्पाद शुद्धता होती है, लेकिन इसमें बड़े कण आकार और खराब फैलाव होता है।
माइक्रोइमल्शन विधि सर्फ़ेक्टेंट की क्रिया के तहत दो अमिश्रणीय समाधानों द्वारा निर्मित थर्मोडायनामिक रूप से स्थिर, आइसोट्रोपिक, पारदर्शी या पारभासी फैलाव प्रणाली का उपयोग करके ज़िरकोनियम सिलिकेट पाउडर का संश्लेषण है। इस विधि द्वारा प्राप्त जिरकोनियम सिलिकेट पाउडर का कण आकार और फैलाव अच्छा है, लेकिन प्रायोगिक उपकरण सरल और संचालित करने में आसान है।
हाइड्रोथर्मल विधि सिलिकॉन स्रोत के रूप में एथिल ऑर्थोसिलिकेट और ज़िरकोनियम स्रोत के रूप में ज़िरकोनियम ऑक्सीक्लोराइड का उपयोग करती है, और ज़िरकोनियम सिलिकेट पाउडर को संश्लेषित करने के लिए हाइड्रोथर्मल प्रतिक्रिया का उपयोग करती है। यह विधि बेहतर प्रदर्शन के साथ सीधे जिरकोनियम सिलिकेट पाउडर को संश्लेषित कर सकती है, लेकिन हाइड्रोथर्मल प्रतिक्रिया का समय लंबा है।
सोल-जेल विधि ज़िरकोनियम एसीटेट को ज़िरकोनियम स्रोत के रूप में और एथिल ऑर्थोसिलिकेट को सिलिकॉन स्रोत के रूप में उपयोग करती है, और सब्सट्रेट पर ज़िरकोनियम सिलिकेट फिल्म तैयार करने के लिए सोल-जेल प्रक्रिया का उपयोग करती है। यह विधि सब्सट्रेट के साथ फिल्म के आसंजन को बढ़ा सकती है और कोटिंग्स की संख्या को और बढ़ा सकती है।
